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Semiconductor on insulator substrate and devices formed therefrom 发明授权

2023-05-24 3150 825K 0

专利信息

申请日期 2025-06-29 申请号 US10819441
公开(公告)号 US7005302B2 公开(公告)日 2006-02-28
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Qi Xiang
简介 A semiconductor on insulator (SOI) device is comprised of a layer of a dielectric material having a perovskite lattice, such as a rare earth scandate. The dielectric material is selected to have an effective lattice constant that enables growth of semiconductor material having a diamond lattice directly on the dielectric. Examples of the rare earth scandate dielectric include gadolinium scandate (GdScO3), dysprosium scandate (DyScO3), and alloys of gadolinium and dysprosium scandate (Gd1-xDyxScO3).


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