客服热线:18202992950

Semiconductor on insulator substrate and devices formed therefrom 发明申请

2023-01-29 3940 788K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 US10819441
公开(公告)号 US20050224879A1 公开(公告)日 2005-10-13
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Qi Xiang
简介 A semiconductor on insulator (SOI) device is comprised of a layer of a dielectric material having a perovskite lattice, such as a rare earth scandate. The dielectric material is selected to have an effective lattice constant that enables growth of semiconductor material having a diamond lattice directly on the dielectric. Examples of the rare earth scandate dielectric include gadolinium scandate (GdScO3), dysprosium scandate (DyScO3), and alloys of gadolinium and dysprosium scandate (Gd1-xDyxScO3).


您还没有登录,请登录后查看下载地址


反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报  |  京ICP备2021025988号-4