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Chemical vapor deposition process using novel precursors 发明申请

2023-05-30 1020 384K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 US10736210
公开(公告)号 US20050129966A1 公开(公告)日 2005-06-16
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 SELVAMANICKAM VENKAT
简介 In a chemical vapor deposition process simple precursors such as a rare earth nitrate or acetate, Ba-nitrate or acetate and Cu-nitrate or acetate are dissolved in an appropriate solvent, preferably water, to form a solution, nebulized into a fine mist and applied to a substrate.


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