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Gas injection head, method for manufacturing the same, semiconductor manufacturing device with the 发明申请

2023-12-16 1710 861K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 US10986216
公开(公告)号 US20050123288A1 公开(公告)日 2005-06-09
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Yasutaka Ito; Jun Ohashi
简介 A gas injection head which is configured to jet a reactive gas includes a head surface. The gas injection head includes a nitride ceramic containing a rare earth compound which is present on the head surface.


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