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光学应用薄膜, 使用此薄膜的发光结构及其制造方法 发明申请

2023-04-07 1630 744K 0

专利信息

申请日期 2025-08-16 申请号 CN03802967.7
公开(公告)号 CN1625706A 公开(公告)日 2005-06-08
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 光神有限会社
简介 本发明涉及光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结 构及其制造方法。本发明提供一种光学应用二氧化硅或二氧化 硅基薄膜,其中共掺有硅纳米团簇和稀土元素。硅纳米团簇的 平均尺寸小于3nm,稀土元素的浓度小于0.1原子数%。在薄 膜中,稀土元素与硅纳米团簇的浓度比控制在1到10的范围 内。薄膜通过利用硅纳米团簇中电子—空穴重新组合激发稀土 元素而发光。根据本发明,对诸如硅纳米团簇的尺寸和浓度、 稀土元素的浓度以及它们的浓度比等条件进行特别的优化,以 制造性能更好的光学装置。


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