| 申请日期 | 2026-03-07 | 申请号 | CN200410094762.9 |
| 公开（公告）号 | CN1618552A | 公开（公告）日 | 2005-05-25 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | TDK株式会社 | ||
| 简介 | 本发明提供一种即使是低R组成也可以得到充 分的烧结密度的烧结磁体的制造方法。它是一种以R(R是稀土 类元素的1种、2种或以上)、T(T是以Fe或Fe和Co为必须 成分的1种、2种或以上的过渡金属元素)以及B(硼)为主要成 分的烧结磁体的制造方法，该方法的特征在于：将由带坯连铸 法制作的其表面的异色附着物1的面积比率在1.5％或以下的 原料合金粉碎至预定的粒度制作微细粉末，将微细粉末在磁场 中加压成形制作成形体并对该成形体进行烧结。 | ||
|
您还没有登录，请登录后查看下载地址
|
客服热线：
手机版
二维码
