| 申请日期 | 2025-07-08 | 申请号 | TW093120546 |
| 公开（公告）号 | TW200510556A | 公开（公告）日 | 2005-03-16 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 日材料股份有限公司 | ||
| 简介 | 为提供一种溅镀用靶，其系以化学式Ra1–x，AxBO3–α(Ra：Y，Sc及镧族元素(lanthanoid)所构成之稀土类元素，A：Ca，Mg，Ba，Sr，B：Mn，Fe，Ni，Co，Cr等过渡金属元素，0＜x≦0.5)所表示之钙钛矿型氧化物。其特徵在於，相对密度在95％以上、纯度在3N以上。本发明之溅镀用靶，可提高钙钛矿型氧化物系陶瓷材料所构成靶之密度、提高强度，并防止靶之制造步骤、搬送步骤或溅镀操作中之裂痕或裂缝之产生、并提高良率。又，以抑制成膜中粒子之生成、提高品质并减少不良品之发生为主要课题。 | ||
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