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Process for preparing radiation image storage panel by gas phase deposition 发明授权

2023-06-22 4820 959K 0

专利信息

申请日期 2025-07-01 申请号 US10395223
公开(公告)号 US6852357B2 公开(公告)日 2005-02-08
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Yuji Isoda; Yasuo Iwabuchi
简介 A radiation image storage panel composed of a support and a phosphor film of a stimulable europium activated cesium bromide phosphor having the formula (I) : [in-line-formulae]CsBr.MIX−aMIIX′2+bMIIIX″3 : zEu   (I)[/in-line-formulae] [MI is an alkali metal element; MII is an alkaline earth metal element or a divalent metal element; MIII is a rare earth element or a trivalent metal element; each of X, X′ and X″ is a halogen; and 0≦a50° C. for 1 to 8 hours in an inert gas atmosphere which may contain a small amount of oxygen or hydrogen.


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