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用於腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积

2026-04-05 17:032990下载
文件类型：PDF文档
文件大小：4556K
一种制造制品的方法，包括提供用于蚀刻反应器的盖子或喷嘴。 然后进行离子辅助沉积(IAD)以在盖子或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层， 其中保护层是耐等离子体稀土氧化物膜，其厚度小于300m，平均表面粗糙度为10微英寸或更小。


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