耐等离子体涂膜及其形成方法

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本发明公开一种耐等离子体涂膜及其形成方法，更具体而言，涉及一种喷涂第一稀土类金属化合物之后，借助以气溶胶蒸镀和水合处理进行之双重密封使涂层的敞口通道和开孔最小化，从而能够确保耐化学特性，并且基于致密的稀土类金属化合物涂膜确保等离子体耐腐蚀性之耐等离子体涂膜及其形成方法。