微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用

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本发明提供一种微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：抛光液的有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和/或无机缓冲液，使抛光液保持pH在5‑8之间。该抛光液用于含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体、玻璃制品、单晶硅表面、芯片生产的绝缘氧化层的抛光。