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一种TiLaN复合薄膜的制备方法及耐磨制品

2025-06-17 23:573500下载
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文件大小:1881K
本发明属于磁控溅射制备镀覆层领域,具体涉及一种TiLaN复合薄膜的制备方法及耐磨制品。该方法包括以下步骤:(1)采用磁控溅射方式在基体上镀覆稀土合金过渡层;所述稀土合金过渡层由La和Ti组成,La为合金元素;(2)采用磁控溅射方式在稀土合金过渡层上镀覆TiLaN膜层;TiLaN膜层由以下质量分数的组分组成:Ti 55.3‑59.2%,La 4.1%‑6.9%,N 26.2‑30.8%,其余为O。本发明的TiLaN复合薄膜的制备方法,在磁控溅射TiN薄膜时掺杂稀土元素La,实现了复合薄膜的稀土改性,所得复合薄膜具有良好的硬度和摩擦学性能。


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