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用于腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积

2025-06-20 04:471970下载
文件类型：PDF文档
文件大小：5453K
制造物件的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。接著进行离子辅助沉积()以沉积保护层至盖或喷嘴的至少一表面上其中保护层系厚度小于300µ、平均表面粗糙度为10微吋或以下的抗电浆稀土氧化物膜。


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