稀土磁铁用溅射靶及其制造方法

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本发明涉及一种稀土磁铁靶，其为以钕、铁、硼作为必要成分的稀土磁铁靶，其特征在于，平均晶粒直径为10～200μm。本发明的课题在于提供一种烧结体靶及其制造方法，该烧结体靶能够形成量产性、再现性优良且具有良好磁特性的稀土磁铁薄膜、特别是钕磁铁薄膜。