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本发明的课题在于提供:抛光材料粒子,其具有适合于精密抛光的抛光性能,并且具有高的抛光速度和高的单分散性; 包含所述抛光材料颗粒的抛光材料; 以及使用该抛光材料的抛光处理方法。 本发明的研磨材料粒子的特征在于,是平均纵横比为1.00~1.15的球状粒子, 其中由粒径累积分布曲线确定的抛光材料颗粒的粒径(d50(nm))在50-1500nm的范围内, 以及铈的平均含量或铈与选自镧(La)中的至少一种元素的总含量, 抛光材料颗粒中的镨(Pr),钕(Nd),钐(Sm)和铕(Eu)相对于构成抛光材料颗粒的所有稀土元素的总含量为81摩尔%或更高。