用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液

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本发明涉及以稀土氧化物为基础的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性抛光液技术领域，尤其是一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液。它包括含铈稀土氧化物抛光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物，pH值为2.0-5.0。本发明的抛光液分散均匀，生产效率高，产品质量稳定。同时本发明大大减少了被抛光物品的表面划伤，降低抛光机的磨损，延长了抛光机的使用寿命。且配制抛光液时抛光粉用量少，易清洁，减少了对环境的污染。