空间用抗辐照玻璃盖片的制备方法

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本发明涉及一种添加稀土元素和其他氧化物同时使用的特制光学玻璃的制造方法。其制造方法的工艺是玻璃原料配方为含二氧化硅、氧化钠、氧化硼、氧化铈、氧化铝、氧化钛等；其熔制工艺为：将电熔窑加温至1330℃～1400℃，然后将按设计成分配比好的配合料缓慢地通过放料孔加入熔池内，同时进行机械搅拌，当温度升至1580℃～1600℃时停止加料，保温熔化澄清12小时，然后降温出料；三是退火工艺为：将所出料块置于电阻炉内再加温至580℃，按一定温度制度退火，所得产品为空间用抗辐照玻璃盖片。