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本发明涉及一种降低相变存储器单元操作功耗的方法,包括如下步骤:(1)在SiO2/Si基片上涂覆CeO2薄膜;(2)将步骤(1)中制备的涂覆有CeO2薄膜的SiO2/Si基片退火处理,制得具有缓冲层的SiO2/Si基片;(3)在步骤(2)中制备的具有缓冲层的SiO2/Si基片上,涂覆GST相变材料,并封装成相变存储器器件。本发明利用稀土金属氧化物CeO2薄膜材料作为缓冲层,能有效降低相变存储器单元操作电压,从而降低功耗。
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