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本发明涉及一种待暴露于含有卤素的气体气氛中或含有卤素的气体等离子体气氛中的耐腐蚀构件,该构件包括基体和在基体上沉积的多层,该多层包括提供最外表面的稀土氟化物层和在稀土氟化物层下面的具有小于5%的孔隙率的稀土氧化物层。
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