一种高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃及其制备方法

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本发明公开了一种高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃及其制备方法，属于发光玻璃技术领域。所述的高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃，原料包括30～45份AlF3、10～20份InF3、0～10份YF3、35～50份MF2和5～13份ErF3，其中M为碱土元素。本发明提供的高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃拥有宽的透光范围、低的折射率、低的声子能量、低的羟基含量和高的稀土掺杂浓度，在650nm波长的激光二极管泵浦下获得很强的3.5μm荧光，为中红外波段激光器提供一种合适的基质材料。