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制造物件的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。接著进行离子辅助沉积()以沉积保护层至盖或喷嘴的至少一表面上其中保护层系厚度小于300µ、平均表面粗糙度为10微吋或以下的抗电浆稀土氧化物膜。
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