In2O3－SnO2纳米涂膜材料的制备方法

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一种In2O3-SnO2纳米涂膜材料的制备方法。其成分按照重量百分比含量为：氧化铟70～90％，氧化锡0.5～20％，氧化锌0.5～15％，稀土元素化合物0.001～1％。其制备方法包括按比例将氯化铟或金属铟，氯化锡，氯化锌，稀土元素化合物溶解配制成溶液；加热保持温度为50-80℃，pH值在7.0～10.0之间水解，过滤，干燥，煅烧，剪切即得铟锡氧化物纳米涂膜材料。本发明与现有技术相比，可以提高原材料的利用率，降低成本，简化制备工艺，从分子设计水平控制材料的性能与粒度，具有透光率高，导电性能好，适用于大面积的镀膜。