电镀铜的R－T－B系磁铁及其电镀方法和电镀铜液

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R-T-B系磁铁(R为至少一种包括Y的稀土元素，T为Fe或Fe和Co)具有电镀被膜，该被膜在用CuKα1线进行X射线衍射分析中，(200)面的X射线衍射峰强度I(200)和(111)面的X射线衍射峰强度之比[I(200)/I(111)]为0.1～0.45，该电镀被膜是使用含有20～150g/L硫酸铜及30～250g/L螯合剂、并且不含铜离子还原剂、pH调节至10.5～13.5的电镀液，以电镀铜方法形成的。