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稀土盐/氧化剂为基础的化学－机械抛光方法

2026-04-05 01:042870下载
文件类型：PDF文档
文件大小：705K
本发明提供一种使用化学－机械抛光系统抛光 具有金属层的基片的方法。化学－机械抛光系统包含研磨剂及 /或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。


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