溅射靶

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本发明提供包含铝和一种或多种合金元素的溅射靶，该合金元素包括 Ni、Co、Ti、V、Cr、Mn、Mo、Nb、Ta、W和稀土金属(REM)。向纯铝和 铝合金靶中添加非常少量的合金元素通过影响靶的重结晶过程改善沉积的 配线膜的均匀性。合金元素含量的范围为0.01-100ppm且优选为0.1-50ppm 且更优选为0.1-10ppm重量，其足以防止纯铝和铝合金(例如30ppm Si合金) 的动态重结晶。添加少量合金元素提高纯铝和铝合金薄膜的热稳定性和抗电 迁移性，同时维持它们的低电阻率和良好的可蚀刻性。本发明还提供制造微 合金化的铝和铝合金溅射靶的方法。